Kiina SiC-epitaksiprosessi Valmistaja, toimittaja, tehdas

VeTek Semiconductorin ainutlaatuiset karbidipinnoitteet tarjoavat erinomaisen suojan grafiittiosille SiC Epitaxy Process -prosessissa vaativien puolijohde- ja komposiittipuolijohdemateriaalien käsittelyyn. Tuloksena on pidennetty grafiittikomponenttien käyttöikä, säilynyt reaktion stoikiometria, estetty epäpuhtauksien kulkeutumista epitaksi- ja kiteenkasvatussovelluksiin, mikä parantaa saantoa ja laatua.

Tantaalikarbidipinnoitteemme (TaC) suojaavat kriittisiä uunin ja reaktorin komponentteja korkeissa lämpötiloissa (jopa 2200°C) kuumalta ammoniakilta, vedystä, piihöyryiltä ja sulailta metalleilta. VeTek Semiconductorilla on laaja valikoima grafiitin käsittely- ja mittausominaisuuksia räätälöityjen vaatimusten täyttämiseksi, joten voimme tarjota maksullisen pinnoitteen tai täyden palvelun asiantuntijatiimimme kanssa, joka on valmis suunnittelemaan oikean ratkaisun sinulle ja sinun sovelluksellesi .

Yhdistetyt puolijohdekiteet

VeTek Semiconductor voi tarjota erityisiä TaC-pinnoitteita erilaisille komponenteille ja kantajille. VeTek Semiconductorin alan johtavan pinnoitusprosessin avulla TaC-pinnoite voi saavuttaa korkean puhtauden, korkean lämpötilan stabiilisuuden ja korkean kemiallisen kestävyyden, mikä parantaa kide-TaC/GaN)- ja EPl-kerrosten tuotteiden laatua ja pidentää kriittisten reaktorin komponenttien käyttöikää.

Lämmöneristimet

SiC-, GaN- ja AlN-kiteiden kasvatuskomponentit, mukaan lukien upokkaat, siemenpidikkeet, ohjaimet ja suodattimet. Teollisuuskokoonpanot, mukaan lukien resistiiviset lämmityselementit, suuttimet, suojarenkaat ja juotoskiinnikkeet, GaN- ja SiC-epitaksiaaliset CVD-reaktorin komponentit, mukaan lukien kiekkotelineet, satelliittialustat, suihkupäät, korkit ja jalustat, MOCVD-komponentit.

Tarkoitus:

LED (Light Emitting Diode) kiekkoteline

ALD (Semiconductor) -vastaanotin

EPI-reseptori (SiC Epitaxy Process)

TaC-pinnoitettu satelliittisuskeptori TaC Coating Susceptor & Ring TaC Coating osat Halfmoon osat TaC-pinnoitteella

SiC-pinnoitteen ja TaC-pinnoitteen vertailu:

	SiC	TaC
Pääpiirteet	Erittäin puhdas, erinomainen plasmankestävyys	Erinomainen korkeiden lämpötilojen stabiilius (korkean lämpötilan prosessinmukaisuus)
Puhtaus	>99,9999 %	>99,9999 %
Tiheys (g/cm 3)	3.21	15
Kovuus (kg/mm 2)	2900-3300	6.7-7.2
Resistanssi [Ωcm]	0,1-15 000	<1
Lämmönjohtavuus (W/m-K)	200-360	22
Lämpölaajenemiskerroin (10-6/℃)	4,5-5	6.3
Sovellus	Puolijohdelaitteet Keraaminen jigi (tarkennusrengas, suihkupää, nukkekiekko)	SiC Yksikidekasvatus, Epi, UV-LED-laitteiden osat

View as

GaN SiC epi -akseptorissa

VeTek Semiconductor on ammattimainen GaN:n valmistaja SiC epi -suskeptorilla, CVD SiC -pinnoitteella ja CVD TAC COATING -grafiittisuskeptorilla Kiinassa. Niiden joukossa GaN SiC epi-suskeptorilla on tärkeä rooli puolijohteiden käsittelyssä. Erinomaisen lämmönjohtavuutensa, korkean lämpötilan prosessointikykynsä ja kemiallisen stabiiliutensa ansiosta se varmistaa GaN-epitaksiaalisen kasvuprosessin korkean tehokkuuden ja materiaalilaadun. Odotamme vilpittömästi lisäneuvotteluasi.

Lue lisää Lähetä kysely

CVD TaC Coating Carrier

VeTek Semiconductorin CVD TaC Coating -pinnoite on suunniteltu pääasiassa puolijohteiden valmistuksen epitaksiaaliseen prosessiin. CVD TaC Coating -alustan erittäin korkea sulamispiste, erinomainen korroosionkestävyys ja erinomainen lämmönkestävyys määräävät tämän tuotteen välttämättömyyden puolijohteiden epitaksiaalisessa prosessissa. Toivomme vilpittömästi, että voimme rakentaa kanssasi pitkäaikaisen liikesuhteen.

Lue lisää Lähetä kysely

TaC-pinnoitteen ohjausrengas

VeTek Semiconductorin TaC Coating Guide Ring on luotu levittämällä tantaalikarbidipinnoite grafiittiosiin käyttämällä erittäin kehittynyttä tekniikkaa, jota kutsutaan kemialliseksi höyrypinnoitukseksi (CVD). Tämä menetelmä on vakiintunut ja tarjoaa poikkeukselliset pinnoitusominaisuudet. Hyödyntämällä TaC Coating Guide Ringiä grafiittikomponenttien käyttöikää voidaan pidentää merkittävästi, grafiittiepäpuhtauksien liikettä voidaan estää ja SiC- ja AIN-yksikidelaatua voidaan ylläpitää luotettavasti. Tervetuloa tiedustelemaan meitä.

Lue lisää Lähetä kysely

TaC-pinnoitettu grafiittisuskeptori

VeTek Semiconductorin TaC Coated Graphite Susceptor käyttää kemiallista höyrypinnoitusmenetelmää (CVD) tantaalikarbidipinnoitteen valmistukseen grafiittiosien pinnalle. Tämä prosessi on kypsin ja sillä on parhaat pinnoitusominaisuudet. TaC Coated Graphite Susceptor voi pidentää grafiittikomponenttien käyttöikää, estää grafiittiepäpuhtauksien kulkeutumista ja varmistaa epitaksin laadun. VeTek Semiconductor odottaa kyselyäsi.

Lue lisää Lähetä kysely

TaC-pinnoite suskeptori

VeTek Semiconductor esittelee TaC Coating Susceptorin. Poikkeuksellisen TaC-pinnoitteensa ansiosta tämä suskeptori tarjoaa monia etuja, jotka erottavat sen perinteisistä ratkaisuista. VeTek Semiconductorin TaC Coating Susceptor integroituu saumattomasti olemassa oleviin järjestelmiin, ja se takaa yhteensopivuuden ja tehokkaan toiminnan. Sen luotettava suorituskyky ja korkealaatuinen TaC-pinnoite tuottavat jatkuvasti poikkeuksellisia tuloksia piikarbidin epitaksiprosesseissa. Olemme sitoutuneet tarjoamaan laadukkaita tuotteita kilpailukykyiseen hintaan ja odotamme innolla, että saamme olla pitkäaikainen kumppanisi Kiinassa.

Lue lisää Lähetä kysely

TaC-pinnoitteen pyörityslevy

VeTek Semiconductorin TaC Coating Rotation Plate -levyssä on erinomainen TaC-pinnoite. Poikkeuksellisen TaC-pinnoitteensa ansiosta TaC Coating Rotation Plate -levyillä on huomattava korkeiden lämpötilojen kestävyys ja kemiallinen inertisyys, mikä erottaa sen perinteisistä ratkaisuista. Olemme sitoutuneet tarjoamaan laadukkaita tuotteita kilpailukykyiseen hintaan. hinnat ja odotan innolla olevaa pitkäaikainen kumppanisi Kiinassa.

Lue lisää Lähetä kysely

<1 2 3 4 5...6 >

Ammattimaisena SiC-epitaksiprosessi-valmistajana ja -toimittajana Kiinassa meillä on oma tehdas. Tarvitsetpa räätälöityjä palveluita vastaamaan alueesi erityistarpeita tai haluat ostaa kehittyneitä ja kestäviä SiC-epitaksiprosessi Kiinassa valmistettuja tuotteita, voit jättää meille viestin.