Tuotteet

View as

CVD TaC Coating Wafer Carrier

VeTek Semiconductor CVD TaC Coating Wafer Carrier on ammattimainen CVD TaC Coating Wafer Carrier -tuotevalmistaja ja -tehdas Kiinassa. Tällä tuotteella on korkea mekaaninen lujuus, erinomainen korroosionkestävyys ja lämpöstabiilisuus, mikä antaa tarvittavan takuun korkealaatuisten puolijohdelaitteiden valmistukseen. Lisätietosi ovat tervetulleita.

Lue lisää Lähetä kysely

Epi kiekkojen pidike

VeTek Semiconductor on ammattimainen Epi Wafer -telineen valmistaja ja tehdas Kiinassa. Epi Wafer Holder on kiekkopidike puolijohdekäsittelyn epitaksiprosessiin. Se on keskeinen työkalu kiekon stabiloimiseksi ja epitaksiaalikerroksen tasaisen kasvun varmistamiseksi. Sitä käytetään laajalti epitaksilaitteissa, kuten MOCVD ja LPCVD. Se on korvaamaton laite epitaksiprosessissa. Tervetuloa jatkoneuvotteluun.

Lue lisää Lähetä kysely

Aixtron Satelliittikiekon alusta

Ammattimaisena Aixtron Satellite Wafer Carrier -tuotevalmistajana ja innovaattorina Kiinassa VeTek Semiconductorin Aixtron Satellite Wafer Carrier on AIXTRON-laitteissa käytettävä kiekkoteline, jota käytetään pääasiassa MOCVD-prosesseissa puolijohdekäsittelyssä, ja se soveltuu erityisen hyvin korkeaan lämpötilaan ja suureen tarkkuuteen. puolijohteiden käsittelyprosessit. Kantoaine voi tarjota vakaan kiekon tuen ja tasaisen kalvon kerrostumisen MOCVD-epitaksiaalisen kasvun aikana, mikä on välttämätöntä kerrospinnoitusprosessille. Tervetuloa jatkoneuvotteluun.

Lue lisää Lähetä kysely

LPE Halfmoon SiC EPI -reaktori

VeTek Semiconductor on ammattimainen LPE Halfmoon SiC EPI Reactor -tuotteiden valmistaja, innovaattori ja johtava Kiinassa. LPE Halfmoon SiC EPI Reactor on laite, joka on erityisesti suunniteltu tuottamaan korkealaatuisia piikarbidi (SiC) epitaksiaalikerroksia, joita käytetään pääasiassa puolijohdeteollisuudessa. VeTek Semiconductor on sitoutunut tarjoamaan johtavia teknologia- ja tuoteratkaisuja puolijohdeteollisuudelle, ja on tyytyväinen lisätiedusteluihin.

Lue lisää Lähetä kysely

TaC Coating Heater

VeTek Semiconductor on johtava TaC Coating Heaterin valmistaja ja innovaattori Kiinassa. Tällä tuotteella on erittäin korkea sulamispiste (noin 3880 °C). TaC Coating Heaterin korkea sulamispiste mahdollistaa sen toiminnan erittäin korkeissa lämpötiloissa, erityisesti galliumnitridi (GaN) epitaksiaalisten kerrosten kasvaessa metallin orgaanisen kemiallisen höyrypinnoitusprosessissa (MOCVD). VeTek Semiconductor on sitoutunut tarjoamaan edistyksellistä teknologiaa ja tuoteratkaisuja puolijohdeteollisuudelle. Odotamme innolla tulevaa pitkäaikaiseksi kumppaniksesi Kiinassa.

Lue lisää Lähetä kysely

Fysikaalinen höyrysaostus

Vetek Semiconductor Physical Vapor Deposition (PVD) on edistynyt prosessitekniikka, jota käytetään laajalti pintakäsittelyssä ja ohutkalvon valmistuksessa. PVD-teknologia käyttää fysikaalisia menetelmiä materiaalien muuttamiseksi suoraan kiinteistä tai nestemäisistä kaasuista ja muodostaa ohuen kalvon kohdesubstraatin pinnalle. Tämän tekniikan etuna on korkea tarkkuus, korkea tasaisuus ja vahva tarttuvuus, ja sitä käytetään laajalti puolijohteissa, optisissa laitteissa, työkalujen pinnoitteissa ja koristepinnoitteissa. Tervetuloa keskustelemaan kanssamme!

Lue lisää Lähetä kysely

<1 2 3 4 5...27 >