TaC-pinnoiteistukka

VeTek Semiconductorin TaC Coating Chuckissa on korkealaatuinen TaC-pinnoite, joka tunnetaan erinomaisesta korkeiden lämpötilojen kestävyydestään ja kemiallisesta inertsistään, erityisesti piikarbidin (SiC) epitaksiprosesseissa (EPI). Poikkeuksellisten ominaisuuksiensa ja erinomaisen suorituskyvyn ansiosta TaC Coating Chuck tarjoaa useita keskeisiä etuja. Olemme sitoutuneet tarjoamaan laadukkaita tuotteita kilpailukykyiseen hintaan ja odotamme innolla, että saamme olla pitkäaikainen kumppanisi Kiinassa.

Lähetä kysely

Tuotteen Kuvaus

VeTek Semiconductorin TaC Coating Chuck on ihanteellinen ratkaisu poikkeuksellisten tulosten saavuttamiseen SiC EPI -prosessissa. TaC-pinnoitteensa, korkeita lämpötiloja kestävän ja kemiallisen inerttisyytensä ansiosta tuotteemme antavat sinulle mahdollisuuden tuottaa korkealaatuisia kiteitä tarkasti ja luotettavasti. Tervetuloa tiedustelemaan meitä.

TaC (tantaalikarbidi) on materiaali, jota käytetään yleisesti epitaksilaitteiden sisäosien pinnan päällystämiseen. Sillä on seuraavat ominaisuudet:

Erinomainen korkeiden lämpötilojen kestävyys: TaC-pinnoitteet kestävät jopa 2200 °C:n lämpötiloja, joten ne ovat ihanteellisia sovelluksiin korkeissa lämpötiloissa, kuten epitaksiaalisissa reaktiokammioissa.

Korkea kovuus: TaC:n kovuus saavuttaa noin 3000-4000 HV, mikä on paljon kovempaa kuin yleisesti käytetty ruostumaton teräs tai alumiiniseos, mikä voi tehokkaasti estää pinnan kulumisen.

Vahva kemiallinen stabiilisuus: TaC-pinnoite toimii hyvin kemiallisesti syövyttävissä ympäristöissä ja voi pidentää huomattavasti epitaksiaalisten laitteiden osien käyttöikää.

Hyvä sähkönjohtavuus: TaC-pinnoitteella on hyvä sähkönjohtavuus, mikä edistää sähköstaattista vapautumista ja lämmönjohtavuutta.

Nämä ominaisuudet tekevät TaC-pinnoitteesta ihanteellisen materiaalin kriittisten osien, kuten sisäisten holkkien, reaktiokammion seinämien ja epitaksiaalisten laitteiden lämmityselementtien valmistukseen. Päällystämällä nämä komponentit TaC:lla voidaan parantaa epitaksiaalilaitteiston yleistä suorituskykyä ja käyttöikää.

Piikarbidin epitaksissa TaC-pinnoitepalalla voi myös olla tärkeä rooli. TaC-pinnoitteen pinta on sileä ja tiheä, mikä edistää korkealaatuisten piikarbidikalvojen muodostumista. Samaan aikaan TaC:n erinomainen lämmönjohtavuus voi auttaa parantamaan lämpötilan jakautumisen tasaisuutta laitteiston sisällä, mikä parantaa epitaksiprosessin lämpötilan säätötarkkuutta ja viime kädessä saavuttaa korkealaatuisemman piikarbidin epitaksiaalikerroksen kasvun.

TaC-pinnoitepalan tuoteparametri:

TaC-pinnoitteen fysikaaliset ominaisuudet
Tiheys	14,3 (g/cm³)
Ominaisemissiokyky	0.3
Lämpölaajenemiskerroin	6,3 10-6/K
Kovuus (HK)	2000 HK
Resistanssi	1×10-5 ohmia*cm
Lämpöstabiilisuus	<2500 ℃
Grafiitin koko muuttuu	-10-20um
Pinnoitteen paksuus	≥20um tyypillinen arvo (35um±10um)