TaC-pinnoiteistukka

VeTek Semiconductorin TaC Coating Chuck on ihanteellinen ratkaisu poikkeuksellisten tulosten saavuttamiseen SiC EPI -prosessissa. TaC-pinnoitteensa, korkeita lämpötiloja kestävän ja kemiallisen inerttisyytensä ansiosta tuotteemme antavat sinulle mahdollisuuden tuottaa korkealaatuisia kiteitä tarkasti ja luotettavasti. Tervetuloa tiedustelemaan meitä.

TaC (tantaalikarbidi) on materiaali, jota käytetään yleisesti epitaksilaitteiden sisäosien pinnan päällystämiseen. Sillä on seuraavat ominaisuudet:

● Erinomainen korkeiden lämpötilojen kestävyys: TaC-pinnoitteet kestävät jopa 2200 °C:n lämpötiloja, joten ne ovat ihanteellisia sovelluksiin korkeissa lämpötiloissa, kuten epitaksiaalisissa reaktiokammioissa.

● Korkea kovuus: TaC:n kovuus saavuttaa noin 2000 HK, mikä on paljon kovempaa kuin yleisesti käytetty ruostumaton teräs tai alumiiniseos, mikä voi tehokkaasti estää pinnan kulumisen.

● Vahva kemiallinen stabiilisuus: TaC-pinnoite toimii hyvin kemiallisesti syövyttävissä ympäristöissä ja voi pidentää huomattavasti epitaksiaalisten laitteiden osien käyttöikää.

● Hyvä sähkönjohtavuus: TaC-pinnoitteella on hyvä sähkönjohtavuus, mikä edistää sähköstaattista vapautumista ja lämmönjohtavuutta.

Nämä ominaisuudet tekevät TaC-pinnoitteesta ihanteellisen materiaalin kriittisten osien, kuten sisäisten holkkien, reaktiokammion seinämien ja epitaksiaalisten laitteiden lämmityselementtien valmistukseen. Päällystämällä nämä komponentit TaC:lla voidaan parantaa epitaksiaalilaitteiston yleistä suorituskykyä ja käyttöikää.

Piikarbidin epitaksissa TaC-pinnoitepalalla voi myös olla tärkeä rooli. TaC:n pinta pinnoite on sileä ja tiheä, mikä edistää korkealaatuisten piikarbidikalvojen muodostumista. Samaan aikaan TaC:n erinomainen lämmönjohtavuus voi auttaa parantamaan lämpötilan jakautumisen tasaisuutta laitteiden sisällä, mikä parantaa epitaksiprosessin lämpötilan säätötarkkuutta ja lopulta saavuttaa korkealaatuisemman piikarbidin epitaksiaalisen kerroksen kasvun.