Tuotteet

View as

SiC-prosessiputki

VeTek Semiconductor tarjoaa korkean suorituskyvyn SiC-prosessiputkia puolijohteiden valmistukseen. SiC-prosessiputkemme ovat erinomaisia hapetus- ja diffuusioprosesseissa. Erinomaisella laadulla ja ammattitaidolla nämä putket tarjoavat korkean lämpötilan vakauden ja lämmönjohtavuuden tehokkaaseen puolijohteiden käsittelyyn. Tarjoamme kilpailukykyisen hinnoittelun ja pyrimme olemaan pitkäaikainen kumppanisi Kiinassa.

Lue lisää Lähetä kysely

SiC ulokemela

VeTek Semiconductorin SiC Cantilever Paddle on erittäin suorituskykyinen tuote. SiC-ulokelapaamme käytetään yleensä lämpökäsittelyuuneissa piikiekkojen käsittelyyn ja tukemiseen, kemialliseen höyrypinnoitukseen (CVD) ja muihin prosesseihin puolijohteiden valmistusprosesseissa. SiC-materiaalin korkean lämpötilan stabiilius ja korkea lämmönjohtavuus takaavat korkean tehokkuuden ja luotettavuuden puolijohteiden käsittelyprosessissa. Olemme sitoutuneet tarjoamaan korkealaatuisia tuotteita kilpailukykyiseen hintaan ja odotamme innolla, että pääsemme pitkäaikaiseksi kumppaniksesi Kiinassa.

Lue lisää Lähetä kysely

SiC-pinnoite suskeptori

Vetek Semiconductor keskittyy CVD SiC -pinnoitteen ja CVD TaC -pinnoitteen tutkimukseen ja kehittämiseen sekä teollistamiseen. Esimerkkinä piikarbidipinnoite suskeptori, tuote on hyvin prosessoitu korkean tarkkuuden, tiheän CVD SIC -pinnoitteen, korkean lämpötilan kestävyyden ja vahvan korroosionkestävyyden ansiosta. Tiedustelut meille ovat tervetulleita.

Lue lisää Lähetä kysely

CVD SiC Block piikarbidikiteiden kasvattamiseen

VeTek Semiconductor keskittyy CVD-SiC-bulkkilähteiden, CVD SiC -pinnoitteiden ja CVD TaC -pinnoitteiden tutkimukseen ja kehittämiseen sekä teollistukseen. Esimerkkinä CVD SiC -lohko SiC Crystal Growthille, tuotteen käsittelytekniikka on edistynyt, kasvunopeus on nopea, korkeiden lämpötilojen kestävyys ja korroosionkestävyys ovat vahvat. Tervetuloa tiedustelemaan.

Lue lisää Lähetä kysely

SiC Crystal Growth Uusi teknologia

Vetek Semiconductorin erittäin puhdasta piikarbidia (SiC), joka muodostuu kemiallisesta höyrypinnoituksesta (CVD), voidaan käyttää lähdemateriaalina piikarbidikiteiden kasvattamiseen fyysisellä höyrykuljetuksella (PVT). SiC Crystal Growth New Technologyssa lähdemateriaali ladataan upokkaaseen ja sublimoidaan siemenkiteelle. Käytä hylättyjä CVD-SiC-lohkoja materiaalin kierrättämiseen piikarbidikiteiden kasvattamisen lähteenä. Tervetuloa perustamaan kumppanuussuhdetta kanssamme.

Lue lisää Lähetä kysely

CVD SiC suihkupää

VeTek Semiconductor on johtava CVD SiC suihkupään valmistaja ja innovaattori Kiinassa. Olemme erikoistuneet piikarbidimateriaaliin useiden vuosien ajan. CVD SiC Shower Head on valittu fokusointirengasmateriaaliksi sen erinomaisen lämpökemiallisen stabiiliuden, korkean mekaanisen lujuuden ja kestävyyden vuoksi. plasmaeroosiota. Odotamme innolla, että pääsemme pitkäksi aikaa kumppaniksesi Kiinassa.

Lue lisää Lähetä kysely

<...3 4 5 6 7...9 >