Esilämmitysrengas

VeTek Semiconductor on piikarbidipinnoitteen valmistajan uudistaja Kiinassa. VeTek Semiconductorin tarjoama esilämmitysrengas on suunniteltu Epitaxy-prosessiin. Tasainen piikarbidipinnoite ja huippuluokan grafiittimateriaali raaka-aineina varmistavat tasaisen kerrostumisen ja parantavat epitaksiaalikerroksen laatua ja tasaisuutta. Odotamme innolla pitkäaikaista yhteistyötä kanssasi.

Lähetä kysely

Tuotteen Kuvaus

Pre-Heat Ring on keskeinen laite, joka on suunniteltu erityisesti epitaksiaaliseen (EPI) prosessiin puolijohteiden valmistuksessa. Sitä käytetään kiekkojen esilämmittämiseen ennen EPI-prosessia, mikä varmistaa lämpötilan vakauden ja tasaisuuden koko epitaksiaalisen kasvun ajan.

VeTek Semiconductorin valmistama EPI Pre Heat Ring tarjoaa useita merkittäviä ominaisuuksia ja etuja. Ensinnäkin se on rakennettu korkean lämmönjohtavuuden materiaaleista, mikä mahdollistaa nopean ja tasaisen lämmönsiirron kiekon pintaan. Tämä estää hotspot-pisteiden ja lämpötilagradienttien muodostumisen, varmistaa tasaisen kerrostumisen ja parantaa epitaksiaalikerroksen laatua ja tasaisuutta.

Lisäksi EPI-esilämmitysrenkaamme on varustettu edistyneellä lämpötilansäätöjärjestelmällä, joka mahdollistaa esilämmityksen lämpötilan tarkan ja johdonmukaisen ohjauksen. Tämä ohjauksen taso parantaa tärkeiden vaiheiden, kuten kiteen kasvun, materiaalin kerrostumisen ja rajapintareaktioiden tarkkuutta ja toistettavuutta EPI-prosessin aikana.

Kestävyys ja luotettavuus ovat olennaisia näkökohtia tuotesuunnittelussamme. EPI Pre Heat Ring on rakennettu kestämään korkeita lämpötiloja ja käyttöpaineita, mikä säilyttää vakauden ja suorituskyvyn pitkiä aikoja. Tämä suunnittelutapa vähentää ylläpito- ja vaihtokustannuksia ja varmistaa pitkän aikavälin luotettavuuden ja toiminnan tehokkuuden.

EPI Pre Heat Ring -renkaan asennus ja käyttö on yksinkertaista, koska se on yhteensopiva yleisten EPI-laitteiden kanssa. Siinä on käyttäjäystävällinen kiekkojen sijoitus- ja palautusmekanismi, mikä lisää käyttömukavuutta ja tehokkuutta.

VeTek Semiconductorilla tarjoamme myös räätälöintipalveluita vastaamaan asiakkaiden erityisvaatimuksia. Tähän sisältyy EPI Pre Heat Ring -renkaan koon, muodon ja lämpötila-alueen räätälöiminen vastaamaan ainutlaatuisia tuotantotarpeita.

Epitaksiaaliseen kasvuun ja puolijohdelaitteiden tuotantoon osallistuville tutkijoille ja valmistajille VeTek Semiconductorin EPI Pre Heat Ring tarjoaa poikkeuksellisen suorituskyvyn ja luotettavan tuen. Se toimii kriittisenä työkaluna korkealaatuisen epitaksiaalisen kasvun saavuttamisessa ja tehokkaiden puolijohdelaitteiden valmistusprosesseissa.

CVD SiC -pinnoitteen fyysiset perusominaisuudet:

CVD SiC -pinnoitteen fysikaaliset perusominaisuudet
Omaisuus	Tyypillinen arvo
Kristallirakenne	FCC β-faasi monikiteinen, pääasiassa (111) orientoitu
Tiheys	3,21 g/cm³
Kovuus	2500 Vickersin kovuus (kuorma 500 g)
Jyvän koko	2-10 μm
Kemiallinen puhtaus	99,99995 %
Lämpökapasiteetti	640 J·kg-1·K-1
Sublimaatiolämpötila	2700 ℃
Taivutusvoima	415 MPa RT 4-piste
Youngin Modulus	430 Gpa 4pt taivutus, 1300 ℃
Lämmönjohtokyky	300W·m-1·K-1
Lämpölaajeneminen (CTE)	4,5×10-6K-1