SiC-pinnoite ALD-suskeptori

Ammattimaisena piikarbidipinnoitteen ALD-suskeptorin valmistajana ja toimittajana Kiinassa VeTek Semiconductorin SiC-pinnoite ALD-suskeptori on tukikomponentti, jota käytetään erityisesti atomikerrospinnoitusprosessissa (ALD). Sillä on keskeinen rooli ALD-laitteistossa, mikä varmistaa pinnoitusprosessin tasaisuuden ja tarkkuuden. Uskomme, että ALD Planetary Susceptor -tuotteemme voivat tarjota sinulle korkealaatuisia tuoteratkaisuja.

Lähetä kysely

Tuotteen Kuvaus

VeTek puolijohdeSiC-pinnoite ALD-suskeptorisillä on tärkeä rooli atomikerroksen laskeutumisessa (ALD) prosessi. Sen tarkka lämpötilan säätö, tasainen kaasun jakautuminen, korkea kemikaalien kestävyys ja erinomainen lämmönjohtavuus takaavat kalvopinnoitusprosessin tasaisuuden ja korkean laadun. Jos haluat tietää lisää, voit ottaa meihin yhteyttä välittömästi, niin vastaamme sinulle ajoissa!

Tarkka lämpötilan säätö:

SiC-pinnoite ALD-suskeptorilla on yleensä erittäin tarkka lämpötilan säätöjärjestelmä. Se pystyy ylläpitämään tasaisen lämpötilan ympäristön koko pinnoitusprosessin ajan, mikä on ratkaisevan tärkeää kalvon tasaisuuden ja laadun varmistamiseksi.

Tasainen kaasun jakelu:

SiC-pinnoitteen ALD-suskeptorin optimoitu rakenne varmistaa kaasun tasaisen jakautumisen ALD-pinnoitusprosessin aikana. Sen rakenne sisältää yleensä useita pyöriviä tai liikkuvia osia, jotka edistävät reaktiivisten kaasujen tasaista peittämistä koko kiekon pinnalla.

Korkea kemiallinen kestävyys:

Koska ALD-prosessissa käytetään erilaisia kemiallisia kaasuja, SiC-pinnoitettu ALD-suskeptori on yleensä valmistettu korroosionkestävistä materiaaleista (kuten platina, keramiikka tai erittäin puhdas kvartsi) kemiallisten kaasujen eroosion ja korkeiden lämpötilojen vaikutuksen estämiseksi.

Erinomainen lämmönjohtavuus:

Lämmönjohtamiseksi tehokkaasti ja vakaan laskeutumislämpötilan ylläpitämiseksi SiC-pinnoitetuissa ALD-suskeptoreissa käytetään yleensä korkean lämmönjohtavuuden materiaaleja. Tämä auttaa välttämään paikallista ylikuumenemista ja epätasaista kerrostumista.

CVD SiC -pinnoitteen fysikaaliset perusominaisuudet: