CVD SiC on erittäin puhdas piikarbidimateriaali, joka on valmistettu kemiallisella höyrypinnoituksella. Sitä käytetään pääasiassa erilaisiin komponentteihin ja pinnoitteisiin puolijohdekäsittelylaitteissa. Seuraava sisältö on johdatus CVD SiC:n tuoteluokitukseen ja ydintoimintoihin
Lue lisääPuolijohdeteollisuudessa laitteiden koon pienentyessä ohutkalvomateriaalien pinnoitustekniikka on asettanut ennennäkemättömiä haasteita. Atomic Layer Deposition (ALD), ohutkalvopinnoitustekniikka, jolla voidaan saavuttaa tarkka ohjaus atomitasolla, on tullut välttämättömäksi osaksi puolijohteiden va......
Lue lisääOn ihanteellista rakentaa integroituja piirejä tai puolijohdelaitteita täydelliselle kiteiselle pohjakerrokselle. Puolijohteiden valmistuksen epitaksiprosessin (epi) tavoitteena on kerrostaa hieno yksikiteinen kerros, yleensä noin 0,5-20 mikronia, yksikiteiselle alustalle. Epitaksiprosessi on tärkeä......
Lue lisää